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上海酸堿廢氣處理設備

簡要描述:

上海酸堿廢氣處理設備與半導體制造工藝相比,半導體封裝工藝產(chǎn)生的廢氣較為簡單,主要是酸性氣體、環(huán)氧樹脂及粉塵。酸性廢氣主要產(chǎn)生于電鍍等工藝;烘烤廢氣則產(chǎn)生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過程;劃片機在晶片切割過程中,產(chǎn)生含微量矽塵的廢氣。

  • 更新時間:2024-03-30
  • 產(chǎn)品型號:
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 產(chǎn)品品牌:其他品牌
  • 產(chǎn)品廠地:常州市
  • 訪問次數(shù):875
詳細介紹
品牌其他品牌加工定制
處理濃度1000mg/l啟燃溫度350℃
處理風量1000m³/h適用領域制造業(yè)

上海酸堿廢氣處理設備電子半導體行業(yè)酸堿性廢氣處理方法,推薦使用噴淋塔。這是因為半導體制造中產(chǎn)生的酸性和堿性廢氣采用分別收集、分別處理的方法,但處理設備和處理原理基本相同。

對于含有 酸性/堿性物質(zhì)的廢氣,大都采用大型洗滌式中央廢氣處理系統(tǒng)進行處理。但是,有些情況下,由于半導體制造工作區(qū)域離中央廢氣處理系統(tǒng)距離較遠,因此部分酸性/堿性廢氣在輸送至中央廢氣處理系統(tǒng)前,常因氣體特性導致在管路中結(jié)晶或粉塵堆積,造成管路堵塞后導致氣體外泄,嚴重者甚至引發(fā)爆炸,危害現(xiàn)場工作人員的工作安全。

因此,在工作區(qū)域需配置適合制程氣體特性的就地廢氣處理設備進行就地處理,之后再排入中央處理系統(tǒng),而一些特殊的廢氣,包括劇毒、自燃、易爆等廢氣則需要先通過干式洗滌塔等設備通過吸附或氧化/燃燒等方法就地處理,之后再排人中央廢氣處理系統(tǒng) 。

 

1、酸堿性廢氣的來源

電子半導體行業(yè)中酸堿性廢氣的來源為化學清洗站,具有刺激性及有害人體,故酸堿性廢氣的處理方法一般是以濕式洗滌塔做水處理后再排入大氣。洗滌塔利用床體或濕潤的表面可以去除0.1微米以上的粒子。其氣體與液體的接觸方式有交叉(垂直交叉)流式、同向流式及逆向流式三種,而水流的設計上,有噴嘴式,噴霧式,頸式及拉西環(huán)式等四種。

 

2、以下半導體企業(yè)生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢氣均可處理:

Ø  集成電路生產(chǎn)企業(yè):主要包括數(shù)字集成電路板及模擬集成電路板生產(chǎn)企業(yè)。

Ø  分立器件生產(chǎn)企業(yè):主要包括晶體二極管、三極管,整流二極管,功率二極管、化合物二極管等生產(chǎn)制造企業(yè)。

Ø  光電組件生產(chǎn)企業(yè):包括LED、OLED、LCD、光伏太陽能等的生產(chǎn)制造企業(yè)。

由于半導體工藝對操作室清潔度要求*,通常使用風機抽取工藝過程中揮發(fā)的各類廢氣,因此半導體行業(yè)廢氣排放具有排氣量大、排放濃度小的特點。廢氣排放也以揮發(fā)為主。

與半導體制造工藝相比,半導體封裝工藝產(chǎn)生的廢氣較為簡單,主要是酸性氣體、環(huán)氧樹脂及粉塵。酸性廢氣主要產(chǎn)生于電鍍等工藝;烘烤廢氣則產(chǎn)生于晶粒粘貼、封膠后烘烤過程;劃片機在晶片切割過程中,產(chǎn)生含微量矽塵的廢氣。

上海酸堿廢氣處理設備廢氣危害:通常大氣污染對人體健康起著慢性毒害作用,當大氣中的污染物濃度較低時,在某些特殊條件下,產(chǎn)生大量有害氣體泄露外排,導致外界氣象條件突變等,這樣就會引 起人群的急性中毒。 

處理工藝說明:酸堿廢氣由風管引出后,進入廢氣洗氣塔進行凈化處理。洗氣塔內(nèi)添加一定的填料,這樣可以使得廢氣和洗滌液充分接觸,從塔上流下來的洗滌液再通過水泵提升 至塔頂,不斷循環(huán)使用,待循環(huán)洗滌液達到一定濃度后再排向污水處理站。

 1.工藝簡單,管理、操作及維修相當方便簡潔,不會對車間的生產(chǎn)造成任何影響;    

   2.壓降較低,操作彈性大,且具有很好的除霧性能;    

   3.可使用PP、PE、FRP等材料制作;    

   4.我公司的廢氣處理塔采用多重廢氣吸收過濾凈化系統(tǒng),工業(yè)廢氣處理設計周密、層層凈化過濾廢氣,效果較好,去除率可高達95%以上 

 


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